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PVA TePla微波等离子体去胶机

$9 - 10
PVA TePla
德国/美国
2021-06-10 10:53

北京哲勤科技有限公司上海办事处

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北京哲勤科技有限公司上海办事处
021-61061958
zhoumi@gerchin.com
产品属性
数量 100
保修期 1年
产品说明

德国PVA-TePla微波等离子体去胶机(整机进口),性能稳定,去胶均匀。

 

 

典型应用:


去除光刻胶 Photo-resist stripping 


去除残胶 Wafer descum


晶圆和衬底的清洁 Wafer and substrate cleaning


su-8灰化 Su-8 ashing


氮化硅、聚酰亚胺等的刻蚀 Etching of silicon nitride, pi, etc.


刻蚀钝化层 Etching of passivation layers


逆向分析/失效分析中的器件开封 Device decapsulation for failure analysis


微量分析中低温材料灰化 low temperature ashing of materials for chemical trace analysis


过滤器和薄膜的清洁 Cleaning of filters and membranes

 

规格参数:

 

2.45GHz风冷微波电源(0~600w可调),

 

石英或陶瓷腔体,

最多6路气体,

兼容8英寸及以下晶圆

 

可选配法拉第桶

 

外形尺寸:775×749×781 mm 

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