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88-20-0

（邻甲苯磺酸,o-Toluenesulfonic Acid）

中文名称：邻甲苯磺酸

英文名称： o-Toluenesulfonic Acid

CAS No.： 88-20-0

分子式： C₇H₈O₃S

分子量： 172.201621055603

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PubChem CID： 6925

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简介

邻甲苯磺酸是一种化学物质，分子式是C7H8O3S。

名称和标识符

MDL	MFCD00069442
InChIKey	LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N
Inchi	1S/C7H8O3S/c1-6-4-2-3-5-7(6)11(8,9)10/h2-5H,1H3,(H,8,9,10)
SMILES	O=S(C1C(C)=CC=CC=1)(O)=O

别名信息

- 中文别名 -

邻甲苯磺酸
2-甲基苯磺酸

- 英文别名 -

2-Methylbenzenesulfonic acid
2-Toluenesulfonic acid
Benzenesulfonic acid,2-methyl-
Toluene-2-sulfonic acid
2-methyl-benzenesulfonic acid

toluene-2-sulphonic acid
o-Toluenesulfonic acid
Benzenesulfonic acid, 2-methyl-
Toluene sulfonic acid
Toluenesulphonic acid
4ZHF5BMF7N
toluenesulfonicacid
O-TOLUENE SULFONIC ACID
toluensulfonic acid
o-Toluenesulfonicacid
toluene-sulfonic acid
toluene sulphonic acid
o-toluene-sulfonic acid
2-toluene-sulfonic acid
ortho-toluene sulfonic acid
NCIOpen2_001232
2-methylbenze
2-Methylbenzenesulfonic acid (ACI)
o-Toluenesulfonic acid (8CI)
2-Methylbenzensulfonic acid
NSC 87381
o-Methylbenzenesulfonic acid
Q27260715
Q27260715
NS00020897
NS00020897
AS-12852
AS-12852
2-methylbenzenesulonic acid
2-methylbenzenesulonic acid
AKOS006272126
AKOS006272126
EINECS 201-809-3
EINECS 201-809-3
DTXCID9025035
DTXCID9025035
2-Methyl Benzenesulfonic acid
2-Methyl Benzenesulfonic acid
Z1198149968
Z1198149968
2-methylbenzene-1-sulfonic acid
2-methylbenzene-1-sulfonic acid
SY240107
SY240107
2-methylbenzenesulfonic acid
2-methylbenzenesulfonic acid
2-methylbenzenesulfonicacid
2-methylbenzenesulfonicacid
Toluene-2-sulphonic acid
Toluene-2-sulphonic acid
O-METHYLBENZENESULFONIC ACID
O-METHYLBENZENESULFONIC ACID
o-toluenesulfonic acid
o-toluenesulfonic acid
CHEBI:173491
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SCHEMBL1748
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CHEMBL3306053
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88-20-0
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EN300-6736440
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DTXSID1045035
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SCHEMBL10433745
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UNII-4ZHF5BMF7N
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2-methylbenzenesulphonic acid
2-methylbenzenesulphonic acid
NSC-87381
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DB-006221
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MFCD00069442
MFCD00069442

物化性质

实验特性

LogP	2.32250
PSA	62.75000
折射率	1.5151 (estimate)
沸点	272.52°C (rough estimate)
熔点	62-64°C
密度	1.3692 (rough estimate)

计算特性

精确分子量	172.01900
氢键供体数量	1
氢键受体数量	3
可旋转化学键数量	1
同位素质量	172.019415
重原子数量	11
复杂度	214
同位素原子数量	0
确定原子立构中心数量	0
不确定原子立构中心数量	0
确定化学键立构中心数量	0
不确定化学键立构中心数量	0
共价键单元数量	1
疏水参数计算参考值（XlogP）	1
拓扑分子极性表面积	62.8

安全信息

安全说明	H303+H313+H333
危害声明	H315; H319; H335
警示性声明	P261; P264; P271; P280; P302+P352; P304+P340; P305+P351+P338; P312; P321; P332+P313; P337+P313; P362; P403+P233; P405; P501
储存条件	Store long-term at 2-8°C
信号词	Warning

国际标准相关数据

EINECS	201-809-3

海关数据

海关编码	2904100000
海关数据	中国海关编码： 2904100000 概述： 2904100000 仅含磺基的衍生物及其盐和乙酯。监管条件:无。增值税率:17.0%。退税率:9.0%。最惠国关税:5.5%。普通关税:30.0% 申报要素：品名, 成分含量, 用途 Summary： 2904100000 derivatives containing only sulpho groups, their salts and ethyl esters。Supervision conditions:None。VAT:17.0%。Tax rebate rate:9.0%。MFN tariff:5.5%。General tariff:30.0%

海关编码

2904100000

海关数据

中国海关编码：

2904100000

概述：

2904100000 仅含磺基的衍生物及其盐和乙酯。监管条件:无。增值税率:17.0%。退税率:9.0%。最惠国关税:5.5%。普通关税:30.0%

申报要素：

品名, 成分含量, 用途

Summary：

2904100000 derivatives containing only sulpho groups, their salts and ethyl esters。Supervision conditions:None。VAT:17.0%。Tax rebate rate:9.0%。MFN tariff:5.5%。General tariff:30.0%

合成路线

合成路线：1 步

_84%

反应条件：

1.1 Reagents: Sulfuric acid Solvents: Water ; rt → 100 °C; 30 min, 90 - 100 °C; 10 min, 90 - 100 °C

参考文献：

Improvement of the preparation experiment of p-toluenesulfonic acid

Li, Shu-an; et al, Shiyanshi Yanjiu Yu Tansuo, 2005, 24(11), 43-45

合成路线：1 步

108-88-3

_77%

88-20-0

104-15-4

反应条件：

1.1 Reagents: Sulfuric acid (silica supported) ; 30 min, 80 °C

参考文献：

A novel method for sulfonation of aromatic rings with silica sulfuric acid

Hajipour, Abdol R.; et al, Tetrahedron Letters, 2004, 45(35), 6607-6609

合成路线：1 步

108-88-3

_22%

88-20-0

反应条件：

1.1 Reagents: Sulfur trioxide , Sulfuric acid

参考文献：

Gas chromatographic analysis of aromatic sulfonic acids. The sulfonation of aromatic hydrocarbons and related compounds

Cesarz, Kathrin; et al, Journal fuer Praktische Chemie (Leipzig), 1989, 331(6), 1011-13

合成路线：1 步

133-59-5

88-20-0

反应条件：

1.1 Solvents: 1,4-Dioxane , Water ; 6 h, reflux

参考文献：

Architectural Diversity and Elastic Networks in Hydrogen-Bonded Host Frameworks: From Molecular Jaws to Cylinders

Horner, Matthew J.; et al, Journal of the American Chemical Society, 2007, 129(47), 14640-14660

合成路线：1 步

_81%

反应条件：

1.1 Reagents: Sulfur trioxide ; 58.5 °C

参考文献：

Study on the sulfonation of toluene with SO3 in microreactor

Chen, Yanquan; et al, Huaxue Fanying Gongcheng Yu Gongyi, 2013, 29(3), 253-259

合成路线：1 步

108-88-3

88-20-0

121-04-0

反应条件：

1.1 Reagents: Fuming sulfuric acid Solvents: Water ; 20 °C

参考文献：

The mixing sensitivity of toluene and ethylbenzene sulfonation using fuming sulfuric acid studied in a rotor-stator spinning disc reactor

van Kouwen, E. R. ; et al, Chemical Engineering and Processing, 2021, 160,

合成路线：1 步

150-30-1

88-20-0

参考文献：

Optically active phenylalanine prepared with phenylalanine o-toluenesulfonic acid salt

, Japan, , ,

合成路线：1 步

95-48-7

_17%

88-20-0

反应条件：

1.1 Reagents: Chlorosulfonic acid

参考文献：

Sulfonation of 2- and 3-methylphenol

Strandlund, Gert; et al, Acta Chemica Scandinavica, 1979, 33(4), 261-4

合成路线：1 步

反应条件：

1.1 Reagents: Sulfuric acid

参考文献：

Studies on the sulfonation of o-iodotoluene

Muramoto, Yoshihiro; et al, Kinki Daigaku Kogakubu Kenkyu Hokoku, 1985, 19, 27-32

合成路线：1 步

108-88-3

88-20-0

104-15-4

反应条件：

1.1 Reagents: 2,4,6-Trimethylbenzenesulfonic acid Solvents: Mesitylene

参考文献：

Sulfonating agent and process

, World Intellectual Property Organization, , ,

合成路线：1 步

88-19-7

_94%

88-20-0

反应条件：

1.1 Reagents: Pyrylium, tetrafluoroborate(1-) (1:1) Solvents: tert-Butanol ; 3 h, 60 °C

参考文献：

Selective Late-Stage Sulfonyl Chloride Formation from Sulfonamides Enabled by Pyry-BF4

Gomez-Palomino, Alejandro; et al, Angewandte Chemie, 2019, 58(50), 18235-18239

合成路线：1 步

108-88-3

88-20-0

参考文献：

Product subclass 1: arenesulfonic acids and arenesulfonate salts

Fravel, B.; et al, Science of Synthesis, 2007, 31, 739-773

专业数据库参考

PubChemId	6925

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简介

名称和标识符

别名信息

- 中文别名 -

- 英文别名 -

物化性质

实验特性

计算特性

安全信息

国际标准相关数据

海关数据

中国海关编码：

概述：

申报要素：

Summary：

合成路线

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