MDL | MFCD00044642 |
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InChIKey | VEXZGXHMUGYJMC-DYCDLGHISA-N |
Inchi | 1S/ClH/h1H/i/hD |
SMILES | Cl[2H] |
LogP | 0.80200 |
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PSA | 0.00000 |
折射率 | n20/D 1.355 |
水溶性 | Fully miscible in water. |
沸点 | −85 °C(lit.) |
熔点 | −114 °C(lit.) |
蒸气压 | 613 psi ( 21.1 °C) |
闪点 | −40 °F |
颜色与性状 | Liquid |
溶解性 | Fully miscible in water. |
敏感性 | Moisture Sensitive |
密度 | 1.2 |
精确分子量 | 36.98300 |
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氢键供体数量 | 1 |
氢键受体数量 | 0 |
可旋转化学键数量 | 0 |
同位素质量 | 35.977 |
重原子数量 | 1 |
复杂度 | 0 |
同位素原子数量 | 0 |
确定原子立构中心数量 | 0 |
不确定原子立构中心数量 | 0 |
确定化学键立构中心数量 | 0 |
不确定化学键立构中心数量 | 0 |
共价键单元数量 | 1 |
疏水参数计算参考值(XlogP) | 0.8 |
拓扑分子极性表面积 | 0 |
海关编码 | 28459000 |
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用途 | 基本化工原料,用于石油、化工、冶金、印染、食品等工业部门。用于制造医药品的原料、染料中间体、无机盐化合物、增塑剂原料的制造。用于制造氯乙烯等合成树脂,制造氯乙烷、氯代甲烷、半导体的精制。用于制盐酸。用于制造各种氯化物、染料及医药中间体、氯丁橡胶等,还用于湿法冶金,金属表面处理、制糖和制革工艺等。用作分析试剂及腐蚀剂,也用于氯化物制取。用于制盐酸、氯化物,并用作有机化学的缩合剂等。主要用于食品、医药、精细化学品生产,也可用于化学试剂。作pH调节剂,可用于水解淀粉制糖浆,也可用于橘子罐头生产中的去络和脱囊,按生产需要适量使用。用于半导体制备工艺中的外延、热氧化、扩散、蚀刻、化学气相淀积(CVD)等工序,还可用于发光二极管、激光器和光导纤维的生产。是电子工业大规模集成电路所需的重要材料之一。是制造氯化铵、氯化钙、氯化锌、氯化亚铜、碱式氯化铝、三氯化铁液体等氯化物的原料。在染料及医药中间体的合成中.用于氨基重氮化、硝基转化为氨基、磺酸钠盐转化为磺酸等。也用于聚氯己烯、氯丁橡胶、氯乙烷的合成。还用于湿法冶金(如分解钨矿石生产钨酸等),金属表面处理(作为铜材酸洗除锈)。在印染工业中,用于织物漂白后酸洗、丝光处理后中和等。此外,也用于离子交换树脂的再生、制糖和制革工业。用作酸性清洗腐蚀剂,可与双氧水配合使用。以盐酸为主剂进行化学清洗具有作用力强、速度快、效果明显、使用方便、所需费用低等优点,适用于碳素钢、铜,但不能用于奥氏体不锈钢、钛等材质的化学清洗。主要用于电子工业,在集成电路生产中用于蚀刻、钝化、外延等工艺。还用于金属冶炼和光导通讯领域。用于制染料、香料、药物、各种氯化物及腐蚀抑制剂。 |
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PubChemId | 522634 |
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SMILES
[2D]Cl